GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可...
GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)...
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜...
鈣鈦礦鍍膜機(jī)2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成
VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中進(jìn)行薄膜的生成過程
VTC-100PA真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-100PA真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝
VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)2 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中進(jìn)行薄膜的生成過程
GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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